view in publisher's site

Analysis of dopant concentration effect on optical and morphological properties of PVD coated Cu-doped Ni3S2 thin films

Current research has commenced the synthesis of Nickel-Diethyl dithiocarbamate Ni (S2CN (Et) 2) n]) and Copper diethyldithiocarbamate Cu (S2CN(Et)2) complex by single source precursor method. These complexes were utilized for deposition of pure and Cu-doped Ni3S2 thin films on glass substrate by physical vapor deposition technique. FTIR peaks of Copper and Nickel complex confirmed the formation of dithiocarbamate complex depicted by vibrational frequencies of M–S bond. Thermo-gravimetric analysis (TGA) of Nickel diethyl dithiocarbamate depicted decomposition of complex into corresponding metal sulphides. Different phases were observed by XRD in which predominant phase is Ni3S2 and crystalline size was about 90.8 nm calculated by Debye Scherrer equation. Fabrication of thin film is confirmed by UV–vis-Spectroscopy indicating the band gap of 2.1 eV for pure nickel sulphide which decreases to an appreciable extent of 1.89 eV for 6% doping of Copper while a slight decrease (i.e., 1.63 eV) upon 10% doping. The SEM showed homogeneous covering with Ni3S2 spherical particles at a few distance apart and grain size was 450 μm. Energy dispersive X-ray (EDX) have shown the proper deposition of Nickel Sulphide on glass substrate with subsequent doping of Copper. To the best of our knowledge, optical and structural analysis of PVD deposited doped and undoped Ni3S2 thin films were examined for the first time in this study.

تحلیل اثر غلظت آلاینده بر خواص نوری و مورفولوژیکی لایه‌های نازک Ni۳S۲ با پوشش PVD

تحقیقات اخیر سنتز کمپلکس نیکل - دی اتیل دی تیوکاربامات Ni (S۲CN (t)۲)n)و مس دی اتیل دی تیوکاربامات Cu (S۲CN (t)۲)را با استفاده از روش پری کورسور تک منبع آغاز کرده‌است. این کمپلکس‌ها برای رسوب لایه‌های نازک Ni۳S۲ خالص و دوپه شده با Cu روی زیرلایه شیشه‌ای به وسیله تکنیک رسوب بخار فیزیکی مورد استفاده قرار گرفتند. پیک‌های FTIR مس و کمپلکس نیکل تشکیل کمپلکس دی تیوکربامات را تایید کرد که با فرکانس‌های ارتعاشی پیوند M - S نشان‌داده شده‌است. آنالیز ترموگراویمتری (TGA)نیکل دی اتیل دی تیوکاربامات تجزیه کمپلکس به سولفیدهای فلزی مربوطه را نشان می‌دهد. فازه‌ای مختلف توسط XRD مشاهده شدند که در آن فاز غالب Ni۳S [ ۲ ] است و اندازه کریستال‌ها در حدود ۹۰.۸ نانومتر بود که با معادله Deخدانگهدار Scherrer محاسبه شد. ایجاد لایه نازک با اسپکتروسکوپی UV - vis تایید می‌شود که نشان‌دهنده شکاف باند ۲ / ۱ eV برای سولفید نیکل خالص است که برای ۶ % دوپه شدن مس به میزان ۱ / ۱ eV کاهش می‌یابد در حالی که کاهش جزیی (یعنی ۶۳ / ۱ eV)در دوپه شدن ۱۰ % است. SEM پوشش همگن با ذرات کروی Ni۳S [ ۲ ] را در فاصله کمی از هم نشان داد و اندازه دانه ۴۵۰ میکرومتر بود. پراکندگی انرژی اشعه ایکس (EDX)رسوب مناسب سولفید نیکل بر روی زیرلایه شیشه‌ای با آلایش متعاقب مس را نشان داده‌است. تا آنجا که ما می‌دانیم، تحلیل ساختاری و نوری لایه‌های نازک Ni۳S۲ دوپه شده و بدون دوپه شده برای اولین بار در این مطالعه مورد بررسی قرار گرفت.
ترجمه شده با

سفارش ترجمه مقاله و کتاب - شروع کنید

95/12/18 - با استفاده از افزونه دانلود فایرفاکس و کروم٬ چکیده مقالات به صورت خودکار تشخیص داده شده و دکمه دانلود فری‌پیپر در صفحه چکیده نمایش داده می شود.