Effect of Bias Applied to the Substrate on the Low Temperature Growth of Silicon Epitaxial Films during RF-PECVD
موضوع مقاله:
سال نشر: 2018 | تعداد ارجاع: 54
American Chemical Society (ACS)
Crystal Growth & Design
پر ارجاعترین مقالات مرتبط:
- مقاله Condensed Matter Physics
- ترجمه مقاله Condensed Matter Physics
- مقاله فیزیک ماده چگال
- ترجمه مقاله فیزیک ماده چگال
- مقاله General Chemistry
- ترجمه مقاله General Chemistry
- مقاله شیمی عمومی
- ترجمه مقاله شیمی عمومی
- مقاله General Materials Science
- ترجمه مقاله General Materials Science
- مقاله علوم مواد عمومی
- ترجمه مقاله علوم مواد عمومی