view in publisher's site

Fabrication of Lithographically Defined Chemically Patterned Polymer Brushes and Mats

Chemically patterned surfaces comprised of polymer mats and brushes of well-defined chemistry were fabricated at the length scale of 10 nm. A key concept is the integration of new materials, cross-linked polymer mats, with traditional lithographic processing. Resist was patterned on top of cross-linked polystyrene mats. After etching, regions of the remaining mat with dimensions ranging from 10 to 35 nm were separated by interspatial openings to the underlying substrate. End-grafted polymer brushes, in this case hydroxyl-terminated poly(2-vinylpyridine) or polystyrene−poly(methyl methacrylate) random copolymer, were grafted into the exposed, interspatial regions from films spin-coated over the patterned mat. Both block copolymer wetting studies, with polystyrene-block-poly(methyl methacrylate) (PS-b-PMMA), and near-edge X-ray fine structure spectroscopy showed that with sufficient cross-linking the polymer mat chemistry was unaffected by the subsequent grafting of the polymer brush. The precise definition of both the chemistry and the geometry was demostrated with two sensitive applications of nanoscale chemical patterns: the site-specific immobilization of Au nanoparticles and the directed assembly of overlying PS-b-PMMA films.

ساخت براوردهای پلیمری با وزن مولکولی مشخص به روش شیمیایی و Mats

سطوح دارای الگوی شیمیایی متشکل از حصیرهای پلیمری و برس‌های شیمی به خوبی تعریف‌شده، در مقیاس طولی ۱۰ نانومتر ساخته شدند. یک مفهوم کلیدی، ادغام مواد جدید، حصیرهای پلیمری با اتصالات عرضی، با پردازش لیتوگرافی سنتی است. در بالای حصیرهای پلی استایرن با اتصال عرضی، نمونه آزمایش طراحی شد. پس از اچینگ، نواحی مات باقی مانده با ابعاد ۱۰ تا ۳۵ نانومتر با بازشوهای بین فضایی به زیرلایه اصلی جدا شدند. برس‌های پلیمری پیوندی انتهایی، در این مورد پلی (۲ - وینیل‌پیریدین)یا کوپلیمر تصادفی پلی (متیل متاکریلات)پلی (۲ - وینیل‌پیریدین)به نواحی در معرض قرار گرفته و بین فضایی از فیلم‌های پوشش داده‌شده با ساختار، پیوند زده شدند. هر دو مطالعه مرطوب کنندگی کوپلیمر با پلی (متیل متاکریلات)بلوک پلی استایرن (PS - b - PMMA)و طیف‌سنجی ساختار ظریف اشعه ایکس نزدیک به لبه نشان داد که با اتصال عرضی کافی شیمی کیک پلی مر تحت‌تاثیر پیوند بعدی برس پلی مر قرار نگرفته است. تعریف دقیق شیمی و هندسه با دو کاربرد حساس الگوهای شیمیایی در مقیاس نانو کاهش یافت: تثبیت ویژه محل نانوذرات طلا و تجمع جهت‌دار فیلم‌های PS - b - PMMA.
ترجمه شده با


پر ارجاع‌ترین مقالات مرتبط:

  • مقاله Inorganic Chemistry
  • ترجمه مقاله Inorganic Chemistry
  • مقاله شیمی آلی
  • ترجمه مقاله شیمی آلی
  • مقاله Organic Chemistry
  • ترجمه مقاله Organic Chemistry
  • مقاله شیمی آلی
  • ترجمه مقاله شیمی آلی
  • مقاله Materials Chemistry
  • ترجمه مقاله Materials Chemistry
  • مقاله شیمی مواد
  • ترجمه مقاله شیمی مواد
  • مقاله Polymers and Plastics
  • ترجمه مقاله Polymers and Plastics
  • مقاله پلمیرها و پلاستیک
  • ترجمه مقاله پلمیرها و پلاستیک
سفارش ترجمه مقاله و کتاب - شروع کنید

با استفاده از افزونه دانلود فایرفاکس چکیده مقالات به صورت خودکار تشخیص داده شده و دکمه دانلود فری‌پیپر در صفحه چکیده نمایش داده می شود.